金属石墨靶材 [非金属靶材]

石墨靶材具有较高的热稳定性和化学稳定性，能够在高温和腐蚀性环境中长期稳定地存在，石墨作为一种碳质元素...

金属钽钛合金靶材 [合金靶材]

金属钽钛合金靶材是由钽（Ta）和钛（Ti）按一定比例混合制成的合金靶材。金属钽钛合金靶材以其高纯度、...

金属钛铌铪钨合金靶材 [合金靶材]

金属钛铌铪钨靶材是一种由钛（Ti）、铌（Nb）、铪（Hf）和钨（W）等元素组成的复合靶材。这种靶材通...

金属二氧化硅合金靶材 [陶瓷靶材]

金属二氧化硅靶材是由二氧化硅（SiO₂）制成的溅射靶材，用于磁控溅射等物理气相沉积（PVD）技术中，...

金属氮化铝合金靶材 [陶瓷靶材]

金属氮化铝靶材是由金属氮化物组成的一种溅射靶材，具体而言，它是由铝和氮元素合成的氮化铝（AlN）材料...

金属铝铜合金靶材 [合金靶材]

铝铜合金靶材中，铝为主要成分，铜的含量通常在1~3%之间。这种合金保持了铝的轻质、抗张强度大等特点，...

金属铝硅合金靶材 [合金靶材]

铝硅合金靶材是由铝和硅两种金属按一定比例混合后制成的靶材。它结合了铝的轻质、导电、导热性好和硅的高硬...

金属氧化锆靶材 [陶瓷靶材]

氧化锆靶材是由氧化锆（ZrO₂）制成的，专门用于薄膜材料制备的靶材。由于氧化锆具有高熔点、高硬度、优...

金属聚四氟乙烯靶材 [陶瓷靶材]

聚四氟乙烯靶材主要由聚四氟乙烯（PTFE）构成，PTFE是一种由四氟乙烯聚合而成的高分子化合物。聚四...

金属钛铌铪钨靶材 [合金靶材]

钛铌铪钨靶材作为一种多元素合金靶材，综合了钛、铌、铪、钨等元素的优点，具备高强度、高熔点、优异的抗腐...

金属钆靶材 [常规金属靶材]

金属钆靶材是一种用于溅射镀膜工艺的材料，主要由金属钆（Gd）和其他合金元素组成。它是一种银白色的金属...

金属氧化镍靶材 [陶瓷靶材]

氧化镍（NiO）靶材是一种在物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等薄膜生长技术中广泛应用的...

金属钛硅合金靶材 [合金靶材]

钛硅合金靶材是由钛（Ti）和硅（Si）元素按一定比例混合制成的靶材。作为一种金属陶瓷材料，它结合了钛...

金属氧化锌铝靶材 [陶瓷靶材]

氧化锌铝靶材，也称为AZO靶材，是一种由氧化锌（ZnO）和铝（Al）组成的特殊掺杂型半导体材料。通常...

金属钴铁合金靶材 [合金靶材]

钴铁合金靶材是由高纯度的钴和铁原料经过特定的制备工艺制成的溅射靶材，钴铁合金靶材以其独特的物理和化学...

金属金靶材 [贵金属靶材]

金靶材是一种以金（Au）为主要成分的目标材料，用于物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等薄...

金属铂靶材 [贵金属靶材]

铂靶材是一种由高纯度铂金属制成的溅射靶材，广泛应用于薄膜制备、涂层、电子器件制造等领域，铂靶材以其高...

金属圆锥钆靶材 [常规金属靶材]

金属圆锥钆靶材主要由金属钆（Gd）组成，并可能包含其他合金元素，以满足特定的性能要求。钆是一种银白色...

金属铜靶材 [常规金属靶材]

铜靶材，高纯度铜制成的溅射靶材，导电性能优越，广泛应用于电子、半导体等行业，用于制备导电薄膜，是镀膜...

金属钽靶材 [常规金属靶材]

钽靶材以其卓越的性能和稳定性，成为半导体、光学镀膜、航空航天等高精尖领域的首选材料，钽靶材的形状多样...