金属二氧化硅合金靶材 [陶瓷靶材]

金属二氧化硅靶材是由二氧化硅（SiO₂）制成的溅射靶材，用于磁控溅射等物理气相沉积（PVD）技术中，...

金属氮化铝合金靶材 [陶瓷靶材]

金属氮化铝靶材是由金属氮化物组成的一种溅射靶材，具体而言，它是由铝和氮元素合成的氮化铝（AlN）材料...

金属氧化锆靶材 [陶瓷靶材]

氧化锆靶材是由氧化锆（ZrO₂）制成的，专门用于薄膜材料制备的靶材。由于氧化锆具有高熔点、高硬度、优...

金属聚四氟乙烯靶材 [陶瓷靶材]

聚四氟乙烯靶材主要由聚四氟乙烯（PTFE）构成，PTFE是一种由四氟乙烯聚合而成的高分子化合物。聚四...

金属氧化镍靶材 [陶瓷靶材]

氧化镍（NiO）靶材是一种在物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等薄膜生长技术中广泛应用的...

金属氧化锌铝靶材 [陶瓷靶材]

氧化锌铝靶材，也称为AZO靶材，是一种由氧化锌（ZnO）和铝（Al）组成的特殊掺杂型半导体材料。通常...